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吉倉(cāng)產(chǎn)品
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（冷壁CVD）

化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（冷壁CVD）

冷壁CVD 生長(zhǎng)設(shè)備是對(duì)現(xiàn)有石英管式爐CVD 生長(zhǎng)設(shè)備功耗大、控制性差、產(chǎn)量低等缺點(diǎn)開(kāi)發(fā)出來(lái)的一款新型CVD 生長(zhǎng)設(shè)備。該設(shè)備不僅可以用于石墨烯生長(zhǎng)，還可用于六角氮化硼等二維材料薄膜、MBE 薄膜及復(fù)合薄膜生長(zhǎng)。

1.背景氣壓低，雜質(zhì)氣體干擾少。
2. 參數(shù)控制性好，實(shí)驗(yàn)重現(xiàn)性高。
3. 可擴(kuò)展性強(qiáng)，可以定制原位金屬電極
     蒸鍍參雜等功能。
4. 能耗低，產(chǎn)量高，適用于工業(yè)化生產(chǎn)
（大型冷壁CVD）。

技術(shù)參數(shù)：





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