吉倉低壓CVD石墨烯生長設備
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主要特點：
此款設備以開啟式真空管式爐為基礎開發(fā)而來，操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置，可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力，帶刻度的調節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用，工藝重復性好， 這款設備對于石墨烯生長工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
雙溫區(qū)滑軌式真空管式爐JC-1200C -SL
額定功率：5kw
最高溫度：1200℃
工作溫度：1100℃
最大升降溫速率：10℃/min
爐管：高純度石英管Φ50x1400mm（可根據(jù)要求設計）
加熱區(qū)長度：200+200mm
恒溫區(qū)長度：290mm
控溫方式：模糊PID控制和自整定調節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能
供氣系統(tǒng)
標準量程（N2)：50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar）；（可根據(jù)用戶要求定制）
準確度：±1.5%
線性：±0.5～1.5%
重復精度：±0.2%
響應時間：氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec
工作壓差范圍：0.1～0.5 MPa
最大壓力：3MPa
連接頭類型：雙卡套不銹鋼接頭Φ6。
真空機組
空氣相對濕度≤85%，
工作電電壓：220V±10% 50~60HZ
功率：1千瓦
抽氣速率：4L\s
極限真空：4X10-2Pa
實驗真空度：1.0X10-1Pa
容油量：1.1L
進氣口口徑：KF25
排氣口口徑：KF25
轉速：1450rpm
噪音：50dB |
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